4:1,250°C *5:1,350°C *6:1,400°C(每個(gè)空氣中1小時(shí))
■典型化學(xué)分析值
高純氧化鋁的純度過99.99%。 (ICP發(fā)射光譜儀 / GD-MS)
| Al2O3(%) | 雜質(zhì)(ppm) | ||||||||||
| 是的 | Fe | 不 | K | Ca | MG | Cu | Cr | 明尼蘇達(dá) | U | TH | |
| >99.99 | 10 | 8 | 8 | 3 | 3 | 2 | 1 | <1 | <1 | <0.01 | <0.01 |
在1000°C臨時(shí)燒制后過渡氧化鋁。
■顆粒尺寸分布
各等級(jí)的顆粒尺寸分布(激光衍射)
■燒結(jié)特性

各品級(jí)
的燒結(jié)特性[單軸壓成型(98Mpa)1小時(shí)大壓燒制]

太微粒燒結(jié)溫度與晶粒尺寸的關(guān)系。

TM-DAR的SEM照片

TM-DAR燒結(jié)體組織
(1300°C/1小時(shí)空氣烘烤)
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